OPTOMAN社製 193nmIBSコートミラー

OPTOMANの193 nmミラーは、ArFエキシマレーザー向けに最適化された高性能ミラーです。IBS（イオンビームスパッタリング）による高品質なコーティングを採用し、193 nmにおいて98.5%以上の高反射率を実現。低吸収・低散乱特性に加え、長期使用時の反射率変化を抑えた高い安定性を備え、半導体製造やレーザー加工、樹脂加工、先端研究などの高出力UVレーザー用途に適しています。